阿斯麦称High NA EUV首次进入高产量逻辑芯片生产
2026-09-02 08:57
9月1日，阿斯麦透露，其High NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）平台首次用于高产量逻辑芯片产品，标志着0.55 NA光刻技术从认证阶段迈向生产应用。
编辑/李雅
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